产品概述
       磁控溅射是在阴极靶表面上方形成一个正交电磁场，当溅射产生的二次电子在阴极为降区内加破加速为高能电子后，并不直接飞向阴极而是在正交电磁场作用下作来回振荡运动，在运动中高能电子不断的与气体分子发生碰撞，并向后者转移能量，使之电离而本身变为低能电子，消除了高能电子对基体的轰击。

技术参数

设备型号	VLT-1000	VLT-1200	VLT-1300
镀膜室尺寸	Φ1000×1250	Φ1200×1250	Φ1300×1500
极限真空度	10-4Pa	10-4Pa	10-4Pa
抽气时间	空载常温抽至5×10-3Pa＜10min
膜厚仪	配置振测厚仪
蒸发源	电阻蒸发
学生靶	一对（中频）
圆柱靶	一支
高压轰击	3000V 600MA	3000V 600MA	3000V 300MA
工件偏压	1000V 20A 500 40A	1000V 20A 500 40A	1000V 30A 500 60A
工件旋转方式	单/6/8转公自转行星式齿轮结构
配置机组	K-600、ZJP300	K-600、ZJP300	K-800、ZJ600
	2X-70	2X-70	2X-70
充气系统	气体质量流量控制仪
烘烤温度	350℃
控制系统配置	自控控制PLC及触摸屏

说明：带*配置由用户退配，并可由用户订选造其他规格

设备原理图示

极间靶磁控阴极
       配套了优化的极间靶磁控阴极。对于普通的反射性镀膜应用而言，该设备将配套工作清洁用的中频工位、等离子增强化学气相沉积底层?；ざ颇?、高速率溅射蒸发镀膜、等离子增强化学气相沉积表层?；ざ颇さ认嘤Φ哪げ愎ひ帐?。

全自动工艺控制和整合
       设备的硬件和软件设计可以与客户生产线的传送带进行有机的结合。传送带负责将工件架传送到设备上料工位，从而将工件传送到设备的镀膜工位，在工件进入下料工位时，传送带接收工件架并将工件传送到下个生产岗位，设备通过与传送带的精确的配合，帮助客户进一步提高生产效率，降低生产成本和提高产能。

满足客户的高生产要求
       包括人机对话界面在内的控制系统可以提供故障诊断、报警功能和数据日志管理。设备各个组件如阴极、驱动装置和阀门等的安装位置充分的考虑到了维护、维修的工作需要?；偷纳杓?、选材和制造充分的反应了唯力特真空设备准则。